3D ÇÁ¸°ÅÍ¿ë Ti-6Al-4V ±¸ÇüºÐ¸»ÀÇ Á¦Á¶¼öÀ² 30%ÀÌ»ó Áõ°¡ Pulse Plasma Rotating Electrode ±â¼ú °³¹ß
- PulseÀü·ù »ç¿ë¿¡ ÀÇÇÑ Çձݺи» ¹Ì¼¼È ±â¼ú °³¹ß(ÀÔµµ 100 § ÀÌÇÏ)
- Electrode °¡¿À» ÅëÇÑ ºÐ¸»Á¦Á¶ ¼öÀ² Çâ»ó ±â¼ú °³¹ß(±âÁ¸ ´ëºñ 30% ÀÌ»ó)
- 2Áß ºÐÀ§±â Á¦¾î¿¡ ÀÇÇÑ Çձݺи» °í¼øµµÈ ±â¼ú °³¹ß(»ê¼Ò 2,000 ppm ÀÌÇÏ)
- °øÁ¤ ÃÖÀûÈ ¹× ºÐ±ÞÀ» ÅëÇÑ ÀÔµµºÐÆ÷ ÃÖ¼ÒÈ ±â¼ú °³¹ß(¡¾30% ÀÌÇÏ)
- ºÐ¸» Áø±¸µµ, ÀÔµµ ¹× ÀÔµµºÐÆ÷, »ê¼Ò ÇÔÀ¯·® Æò°¡ ¹× °øÁ¤ ÀÇÁ¸¼º Çؼ®
<¼¾¼ & ¹ëºê> |
<¼¾¼ & ¹ëºê> |
<ÄÁÆ®·Ñ ÆгÎ> |
³»°æ 1500 mm è¹ö ¼Ó¿¡¼ ºñ»êµÇ´Â 120 ¥ìm(ºÓÀº»ö)¿Í 70 ¥ìm(ÆĶû»ö) Å©±â Ti ÇÕ±Ý ºÐ¸» (ÄÄÇ»ÅÍ 3D ½Ã¹Ä·¹À̼Ç) |
ÄÄÇ»ÅÍ ½Ã¹Ä·¹À̼ǿ¡ ÀÇÇÑ °øÁ¤°³¼±, ºÀ ÁÖÀ§ °¡¿ ±â¼ú°³¹ß ¹× pulse plasma ¿¡³ÊÁö »ç¿ëÀ¸·Î 40-100 mm Å©±âÀÇ ºÐ¸» Á¦Á¶¼öÀ² 65% ÀÌ»ó ´Þ¼º
Ar °¡½º À¯µ¿ºÐ¼® | ºÀ ÁÖº¯ °¡¿±â¼ú | Á¦Á¶ ºÐ¸» | |||
---|---|---|---|---|---|
Ar À¯µ¿¼Óµµ | ºÀ Çü»ó | Plasma ¿¡³ÊÁö | ºÀ Çü»ó | ||
±â ¼ú °³¹ß Àü |
|||||
±â ¼ú °³¹ß ÈÄ |